中商情报网讯：光刻胶又叫“光致抗蚀剂”，是一种在紫外光等光照或辐射下，其溶解度会产生显着的改变的薄膜资料。光刻胶是一种重要的半导体资料，在半导体工业中占有主体位置。跟着半导体技能的开展，光刻胶的开展前途也渐渐变得宽广。

  光刻胶工业链上游为原资料，包括树脂、单体、光引发剂和溶剂等；中游为光刻胶制作环节，光刻胶产品最重要的包括PCB光刻胶、面板光刻胶、半导体光刻胶。下流为使用环节，最重要的包括PCB、半导体、面板显现、芯片等。

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